磁控溅射技术在市场中应用非常的广泛，各行各业物件膜层镀膜，大多数都是采用磁控溅射技术，磁控溅射技术在真空行业也是非常的受欢迎和追捧。磁控溅射是属于物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射技术虽然很受追捧，但是在操作它时，也会遇到很多的问题，那么
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在日常操作中，有哪些常见的故障呢，下面帮大家列举出来：
二、辉光不稳
（1）电压电流不稳，检查电源；
（2）真空室压力不稳，检查氩气进气量及真空系统；
（3）电缆故障，检查电缆是否连接良好。
三、成膜质量差
（1）基片表面清洁度差，清洁基片表面；
（2）真空室清洁度差，清洁真空室；
（3）基片温度过大或过小，检查温控系统，校准热电偶；
（4）真空室压力过大，检查真空系统；
（5）溅射功率设置不当，检查直流电源，设置何事的设定功率。
四、溅射速率低
（1）氩气进气量过大或过小，观察辉光颜色可以判定氩气是过大还是过小，据此调整氩气进气量；检修流量计；
（2）靶材过热，检查冷却水流量；
（3）检查永磁体是否消磁。
当
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出现异常的时候，大多数都是以上四条的原因，大家可以提前掌握，后期遇到问题的时候，可以根据这几条思路去排查。
