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PVDbat365在线登录网站工艺介绍

2022-11-10

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PVDbat365在线登录网站 镀膜技术是在真空腔体中将钛、金、银、石墨、水晶等金属或非金属、化合物、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积一层薄薄膜层表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,PVD有很多优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀,颜色靓丽,改变其功能性能等。


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PVD技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),简称为PVD。行业内通常所说的“IP”(ion plating)离子镀膜,是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用,为了强调离子的作用,而统称为离子镀膜。
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