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中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜，这种镀膜技术是蒸发镀膜技术。
真空bat365官网登录入口对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜，这种镀膜技术，称之为磁控溅射镀膜技术。
真空bat365官网登录入口是由真空炉体，真空泵，控制柜，真空计，冷却系统等部件组成，真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。靶材根据具体镀制的膜层决定，镀什么膜层，用什么靶材，或者冲入相关分气体，来达到自己需要的膜层。
根据工艺要求选择不同规格及类型
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，其类型有电阻蒸发bat365在线登录网站、电子束蒸发bat365在线登录网站、磁控溅射bat365在线登录网站、离子镀bat365在线登录网站、磁控反应溅射bat365在线登录网站、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
